原標題：兩高司法解釋降低商標標識犯罪、假冒專利罪等入罪門檻

來源：新華網

原標題：兩高司法解釋降低商標標識犯罪、假冒專利罪等入罪門檻

來源：新華網

新華社北京4月24日電 題：兩高司法解釋降低商標標識犯罪、假冒專利罪等入罪門檻

新華社記者馮家順、朱高祥

為加大知識產權刑事司法保護力度，更好服務保障經濟社會高質量發展，最高人民法院、最高人民檢察院24日對外發布關于辦理侵犯知識產權刑事案件適用法律若干問題的解釋。

司法解釋共31條，具體分為商標犯罪、假冒專利罪、著作權犯罪、商業秘密犯罪相關規定和知識產權犯罪共性問題的規定五部分。

“當前知識產權領域侵權易發多發現象仍一定程度存在，犯罪行為呈現新型化、復雜化、高技術化等特點，社會各界創新創作主體對加強知識產權刑事保護的需求日益強烈?！弊罡呷嗣穹ㄔ焊痹洪L陶凱元說。

堅持依法嚴格保護，讓受害者權益得以挽回，讓侵權者付出更重代價。

降低入罪標準——司法解釋根據實際降低了商標標識犯罪以及假冒專利罪、銷售侵權復制品罪的入罪標準。例如，對于銷售侵權復制品罪，將“違法所得數額較大”的入罪標準由“十萬元”修改為“五萬元”。

增加入罪情形——將“銷售金額”“貨值金額”“銷售復制件數量”等規定為銷售侵權復制品罪的入罪情形；為依法嚴懲多次侵權、長期侵權，針對二年內受過刑事處罰或者行政處罰后再次實施侵權的情形降低入罪數額標準。

規定從重處罰條款——重點打擊社會危害性和主觀惡意較大的以侵犯知識產權為業、在特殊時期假冒特殊商品、服務注冊商標的行為以及沒有悔罪表現的拒不交出違法所得等情形。

提高罰金適用上限——將原有司法解釋中的“罰金數額一般在違法所得數額的一倍以上五倍以下”修改為“一倍以上十倍以下”，提高罰金刑適用上限。

在商業秘密定罪量刑方面，最高法民三庭庭長李劍介紹，司法解釋明確侵犯商業秘密罪“情節嚴重”的入罪標準，即造成損失數額或者違法所得數額“三十萬元以上”。二年內因侵犯商業秘密受過刑事處罰或者行政處罰后再次實施的，數額降低為“十萬元以上”。

對于加強版權刑事司法保護，最高檢知識產權檢察廳副廳長劉太宗介紹，司法解釋進一步明確侵犯著作權罪、銷售侵權復制品罪“其他嚴重情節”的具體情形。例如，對于侵犯著作權罪，新增“下載數量達到一萬次以上的”入罪情形，保留“被點擊數量”作為入罪標準，并由“五萬次”適當提高到“十萬次”。

當天，兩高還發布了9件知識產權刑事保護典型案例，涉及實踐中常見的法律適用爭議問題，有助于對司法解釋的準確把握和正確適用。

權威數據顯示，2013年至2024年，全國各級人民法院、人民檢察院提起公訴侵犯知識產權刑事案件6.91萬件，審結一審侵犯知識產權刑事案件6.46萬件，充分彰顯我國嚴格保護知識產權、打擊侵犯知識產權犯罪的擔當和作為。

想爆料？請登錄《陽光連線》（ https://minsheng.iqilu.com/）、撥打新聞熱線0531-66661234或96678，或登錄齊魯網官方微博（@齊魯網）提供新聞線索。齊魯網廣告熱線0531-81695052，誠邀合作伙伴。